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J-GLOBAL ID：201402299112143693   Reference number：14A0194153

Si(111)表面上準安定吸着酸素分子の酸化膜被覆率依存

Author (8)： NISHIMOTO KIWAMU (東北大 多元物質科研) ,  TO KAGEI (東北大 多元物質科研) ,  OGAWA SHUICHI (東北大 多元物質科研) ,  YOSHIGOE AKITAKA (原子力機構) ,  ISHIZUKA SHINJI (長岡技科大) ,  WATANABE DAIKI (東北大 多元物質科研) ,  TERAOKA YUDEN (原子力機構) ,  TAKAKUWA YUJI (東北大 多元物質科研)
Material： 日本表面科学会東北・北海道支部講演会講演予稿集  (日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集)
Volume： 2012  Page： 17  Publication year： Mar. 11, 2013 
JST Material Number： F1026A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,  facet ,  *metastable state ,  Oxygen ,  diatomic molecule ,  *oxide film ,  *coverage factor ,  oxidation ,  adsorption isotherm ,  work function ,  band structure ,  chemical bond ,  Photoelectron Spectroscopy ,  photoelectron spectrum ,  electric double layer ,  time constant ,  band bending ,  absorbed molecule ,  dioxygen ,  surface oxidation ,  *conversion coating film
Semi thesaurus term： P-type silicon ,  adsorption isotherm ,  oxidation state

JST classification (2)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P) ,  Electron spectroscopy  (BM09060K)

Terms in the title (5)： Si ,  吸着 ,  酸素分子 ,  酸化膜 ,  被覆率