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J-GLOBAL ID:201403002500532619

細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材の製造方法及び細胞凝集体形成用基材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (9): 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  新庄 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012174149
Publication number (International publication number):2014030405
Application date: Aug. 06, 2012
Publication date: Feb. 20, 2014
Summary:
【課題】ポリイミド等の膜表面への微細な凹凸形成の際、粉塵の発生を防止することができる細胞凝集体の形成方法を提供する。【解決手段】(a1)下式(1)で表されるポリイミド又はその前駆体が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程、(a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程を有する細胞凝集体の形成方法。(式(1)中、R1は、特定式で表される4価の有機基。R2は、炭素数1〜20の2価の有機基である。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
(a1)ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程、 (a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び (a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程 を有する細胞凝集体の形成方法。
IPC (2):
C12N 5/07 ,  C12M 1/00
FI (2):
C12N5/00 202 ,  C12M1/00 C
F-Term (8):
4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B065AA91X ,  4B065AC20 ,  4B065BC41 ,  4B065CA44
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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