レーザー装置及びレーザー光増幅方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：堀城之 , 前島幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012246439
Publication number (International publication number)：2014096445
Application date： Nov. 08, 2012
Publication date： May. 22, 2014
Summary：

【課題】パルスの平均エネルギーが高く、かつ繰り返し周波数が高い超短パルスのレーザー光を発する。【解決手段】レーザー光取り込み鏡13とレーザー光取り出し鏡14との間の光路(光路長L)に光が閉じこめられ、その間において、Thin-Diskレーザー媒質11によって増幅が行われる。繰り返しレーザー光20がその入射光として用いられる。この際、光路長Lを特定の値に設定することによって、繰り返しレーザー光20における繰り返し周波数を維持した状態で、電場干渉の効果によってその平均強度を高め、出力レーザー光100として出力する。この場合の光路長Lにおいては整数倍の任意性があるため、大きな値を適宜設定することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

一定の周期をもつパルス状の繰り返しレーザー光を、前記周期を維持した状態で増幅して出力するレーザー装置であって、レーザー光取り込み鏡とレーザー光取り出し鏡の間で定められた光路中にレーザー媒質を備え、前記レーザー光取り込み鏡を透過してレーザー光が前記光路に入射し、前記レーザー取り込み鏡を透過して、前記光路中で増幅されたレーザー光が出力される構成を具備する共振器を具備し、前記繰り返しレーザー光の縦モード間隔が、前記共振器の光路長で定められる縦モード間隔のM倍(ここで、Mは2以上の整数)とされ、前記繰り返しレーザー光が前記レーザー光取り込み鏡を透過して前記共振器の前記光路に入射する設定とされたことを特徴とするレーザー装置。

IPC (3)：

H01S 3/139 , H01S 3/098 , H01S 3/23

FI (3)：

H01S3/139 , H01S3/098 , H01S3/23

F-Term (9)：

5F172AL07 , 5F172DD01 , 5F172DD04 , 5F172NN14 , 5F172NN27 , 5F172NR12 , 5F172NR28 , 5F172NS04 , 5F172NS18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭56-038881
レーザ装置および極端紫外光光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-211072 Applicant：ギガフォトン株式会社
特開平3-155690

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