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J-GLOBAL ID：201003041430958822

レーザ装置および極端紫外光光源装置

Inventor：
若林 理

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遠藤 彰

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クリストフ ノバック

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菅沼 崇

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守屋 正人

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Applicant, Patent owner：
ギガフォトン株式会社

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Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009211072
Publication number (International publication number)：2010171375
Application date： Sep. 11, 2009
Publication date： Aug. 05, 2010
Summary：
【課題】高出力が可能なCO2ガスなどを増幅媒体とする増幅器を用いた場合でも、この増幅器に対するマスタオシレータの取り扱いが容易で且つ高効率な増幅が可能なレーザ装置および極端紫外光光源装置を提供する。【解決手段】極端紫外光光源装置は、1つ以上の縦モードレーザ光を出力する半導体レーザ61と、1つ以上の増幅波長帯域S1〜S7に含まれる波長の縦モードレーザ光を増幅するプリアンプPAおよびメインアンプMAと、半導体レーザ61から出力される縦モードレーザ光の波長が増幅波長帯域S1〜S7に含まれるように半導体レーザ61を制御する縦モードコントローラ4および縦モードアクチュエータ5と、を備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
1つ以上の縦モードレーザ光を出力するマスタオシレータと、 1つ以上の増幅波長帯域に含まれる波長の縦モードレーザ光を増幅する分子ガスを媒体とする増幅器と、 前記マスタオシレータから出力される前記縦モードレーザ光の波長が前記増幅波長帯域に含まれるように前記マスタオシレータを制御する制御部と、 を備えたことを特徴とするレーザ装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  H01S 3/104 ,  H01S 5/14
FI (3)：
H01L21/30 531S ,  H01S3/104 ,  H01S5/14
F-Term (12)：
5F046GC03 ,  5F071AA05 ,  5F071JJ02 ,  5F071JJ10 ,  5F173AB34 ,  5F173AB43 ,  5F173AB44 ,  5F173AB50 ,  5F173SA08 ,  5F173SA17 ,  5F173SA34 ,  5F173SC10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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