Pat
J-GLOBAL ID:201403042149384316
磁気抵抗素子及び磁気メモリ
Inventor:
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (13):
蔵田 昌俊
, 福原 淑弘
, 中村 誠
, 野河 信久
, 峰 隆司
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 赤穂 隆雄
, 井上 正
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012250338
Publication number (International publication number):2014099497
Application date: Nov. 14, 2012
Publication date: May. 29, 2014
Summary:
【課題】 磁気抵抗素子の絶縁不良を抑制する。【解決手段】 実施形態による磁気抵抗素子は、第1の磁性層13と、第2の磁性層15と、第1の磁性層と第2の磁性層との間に設けられた中間層14と、第1の磁性層の中間層が設けられた面と反対面に設けられ、Hf、Al、Mg及びTiの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む第1の層12Aと、第1の層の第1の磁性層が設けられた面と反対面に設けられ、Hf、Al及びMgの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む第2の層12Bと、中間層の側壁に設けられ、第2の層に含まれるHf、Al及びMgの中から選択された1つ以上の元素を含む絶縁層20と、を具備する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1の磁性層と、
第2の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられた中間層と、
前記第1の磁性層の前記中間層が設けられた面と反対面に設けられ、Hf、Al、Mg及びTiの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む第1の層と、
前記第1の層の前記第1の磁性層が設けられた面と反対面に設けられ、Hf、Al及びMgの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む第2の層と、
前記第2の層の前記第1の層が設けられた面と反対面に設けられ、Hf、Al、Mg、Ti、Ta、Mn、Zr、Ca、Sr、Y、Ba、La、Ce、Sm、Eu、Ybの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む第3の層と、
前記中間層の側壁に設けられ、前記第2の層に含まれる前記Hf、Al及びMgの中から選択された1つ以上の元素とBとを含む絶縁層と、
を具備し、
前記第2の下地層の膜厚は、前記第1の下地層の膜厚よりも厚く、
前記第1の磁性層は、記憶層である、磁気抵抗素子。
IPC (7):
H01L 43/10
, H01L 43/12
, H01L 43/08
, H01L 27/105
, H01L 21/824
, H01L 29/82
, H01L 21/306
FI (6):
H01L43/10
, H01L43/12
, H01L43/08 Z
, H01L27/10 447
, H01L29/82 Z
, H01L21/302 105A
F-Term (48):
4M119AA03
, 4M119AA19
, 4M119BB01
, 4M119CC05
, 4M119DD07
, 4M119DD15
, 4M119DD17
, 4M119DD33
, 4M119DD34
, 4M119DD45
, 4M119DD55
, 4M119EE22
, 4M119EE27
, 4M119FF05
, 4M119FF16
, 4M119FF17
, 4M119JJ13
, 5F004AA09
, 5F004BA11
, 5F004DA00
, 5F004DA23
, 5F004DB08
, 5F004DB12
, 5F004EA13
, 5F004EB08
, 5F004FA08
, 5F092AA02
, 5F092AA11
, 5F092AB08
, 5F092AC12
, 5F092AD23
, 5F092AD25
, 5F092BB10
, 5F092BB23
, 5F092BB36
, 5F092BB43
, 5F092BB55
, 5F092BB81
, 5F092BC03
, 5F092BC11
, 5F092BC12
, 5F092BC18
, 5F092BC43
, 5F092BE25
, 5F092BE27
, 5F092CA09
, 5F092CA13
, 5F092CA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
変換器及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-079163
Applicant:リード-ライトコーポレーション
-
磁気検出素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-245109
Applicant:アルプス電気株式会社
-
多層膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-063285
Applicant:株式会社東芝
Return to Previous Page