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J-GLOBAL ID：201403045283856380

薄膜トランジスタおよびその製造方法

Inventor： 河原 敏男 ,  岡本 一将 ,  松本 和彦 ,  宇都宮 里佐 ,  松葉 晃明 ,  松本 均
Applicant, Patent owner： 学校法人中部大学 ,  国立大学法人北海道大学 ,  国立大学法人大阪大学 ,  日新電機株式会社
Agent (4)： 上羽 秀敏 ,  松山 隆夫 ,  坂根 剛 ,  川上 桂子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013045952
Publication number (International publication number)：2014175418
Application date： Mar. 07, 2013
Publication date： Sep. 22, 2014
Summary：

【課題】駆動電圧の低減が可能な薄膜トランジスタを提供する。【解決手段】薄膜トランジスタ10は、シリコン基板1と、チャネル層2と、ソース電極3と、ドレイン電極4と、絶縁膜5と、ゲート電極6とを備える。チャネル層2、ソース電極3およびドレイン電極4は、シリコン基板1の凹凸形状の凸部の長さ方向に沿って凸部上に直線状に配置される。チャネル層2は、カーボンナノウォール薄膜からなり、ソース電極3およびドレイン電極4は、金属カーボンナノウォール薄膜からなる。絶縁膜5は、SiO2からなり、シリコン基板1の裏面に接して配置される。ゲート電極6は、Ti/Auの積層構造からなり、絶縁膜5に接して配置される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

一主面に凹凸形状がストライプ状または碁盤目状に形成されたシリコン基板と、 前記凹凸形状の凸部の長さ方向に沿って前記凸部上に配置され、前記シリコン基板の法線方向に成長したグラフェンまたはカーボンナノウォール薄膜からなるチャネル層と、 前記グラフェンまたは前記カーボンナノウォール薄膜において前記グラフェンまたは前記カーボンナノウォール薄膜の厚み方向に平行な第1の側面に接し、金属カーボンナノウォール薄膜からなるソース電極と、 前記グラフェンまたは前記カーボンナノウォール薄膜の面内方向において前記ソース電極に対向するように配置され、前記グラフェンまたは前記カーボンナノウォール薄膜において前記第1の側面に対向する第2の側面に接し、金属カーボンナノウォール薄膜からなるドレイン電極と、 ゲート電極と、 前記グラフェンまたは前記カーボンナノウォール薄膜と前記ゲート電極との間に配置された絶縁膜とを備える薄膜トランジスタ。

IPC (7)：

H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/30 ,  H01L 51/40 ,  H01L 51/05 ,  H01L 21/205 ,  H01L 29/78

FI (10)：

H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618C ,  H01L29/78 618E ,  H01L29/78 616V ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/28 250E ,  H01L29/28 310E ,  H01L29/28 100A ,  H01L21/205 ,  H01L29/78 301J

F-Term (47)：

5F045AA08 ,  5F045AB07 ,  5F045AC08 ,  5F045EH11 ,  5F110AA07 ,  5F110CC01 ,  5F110CC07 ,  5F110EE02 ,  5F110EE04 ,  5F110EE14 ,  5F110EE22 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF23 ,  5F110GG01 ,  5F110GG02 ,  5F110GG19 ,  5F110GG22 ,  5F110GG25 ,  5F110GG32 ,  5F110GG45 ,  5F110GG51 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK04 ,  5F110HK22 ,  5F110HK32 ,  5F110HK35 ,  5F110QQ14 ,  5F140AA30 ,  5F140AA40 ,  5F140AC16 ,  5F140BA01 ,  5F140BA18 ,  5F140BB01 ,  5F140BC05 ,  5F140BC11 ,  5F140BC15 ,  5F140BF07 ,  5F140BF11 ,  5F140BF15 ,  5F140BF42 ,  5F140BF43 ,  5F140BG30 ,  5F140BJ01 ,  5F140BJ03 ,  5F140BK17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• カーボンナノウォールの処理方法、カーボンナノウォール、カーボンナノウォールデバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-093283   Applicant：トヨタ自動車株式会社, 堀勝, 平松美根男
• カーボンナノウォールの選択成長方法、およびカーボンナノウォールを用いた電子デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-059472   Applicant：国立大学法人名古屋大学, NUエコ・エンジニアリング株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• カーボンナノウォールの自己配列化成長と電界効果素子の作製