Pat
J-GLOBAL ID:201403046864117126

水素含有ガス製造方法および水素含有ガス製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 渡邉 彰 ,  岸本 瑛之助 ,  清末 康子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2006175328
Publication number (International publication number):2008001865
Patent number:5371181
Application date: Jun. 26, 2006
Publication date: Jan. 10, 2008
Claim (excerpt):
【請求項1】 炭化水素を含む材料から水素含有ガスを製造する方法であって、 水蒸気と酸素の共存下に該炭化水素を含む材料から水素を含むガスを生じさせるガス化工程と、 触媒全重量当たり、5重量%超かつ50重量%未満のNiおよび5重量%超かつ50重量%未満のCaOを含み、かつ、Al2O3を含む、ガス中タールの分解及び水素回収用触媒層中を、該ガス化工程により生じたガスが通過するようにさせて、該ガス中に含まれるタールを分解し、かつ、該タールから水素を生じさせる工程と を包含することを特徴とする方法。
IPC (6):
C10J 3/00 ( 200 6.01) ,  C10J 3/54 ( 200 6.01) ,  B09B 3/00 ( 200 6.01) ,  C01B 3/02 ( 200 6.01) ,  C01B 3/38 ( 200 6.01) ,  B01J 23/78 ( 200 6.01)
FI (8):
C10J 3/00 ZAB A ,  C10J 3/54 J ,  B09B 3/00 302 A ,  B09B 3/00 302 C ,  B09B 3/00 302 Z ,  C01B 3/02 Z ,  C01B 3/38 ,  B01J 23/78 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page