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J-GLOBAL ID：201403054173543075
SQUID顕微鏡
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006228529
Publication number (International publication number)：2008051665
Patent number：5493197
Application date： Aug. 25, 2006
Publication date： Mar. 06, 2008
Claim (excerpt)：
【請求項1】
超伝導量子干渉素子を備えたSQUID顕微鏡であって、 そのSQUID顕微鏡部のプローブの先端と被測定試料との間に生じるトンネル電流を測定する電流検出器と、
この電流検出器で測定されたトンネル電流により、前記プローブの先端と前記被測定試料との間隔を計測する手段と、
この電流値が所望の値となるように前記プローブと前記被測定試料との間隔を制御する制御部が設けてあり、 前記制御部は、前記トンネル電流が一定値となるように前記プローブの先端と前記被測定試料との間隔を制御することで、被測定試料表面の表面形状を認知するステップと、
最も高度の大きい前記被測定試料表面とプローブ先端との距離を設定するステップと、
前記距離に基づいて試料ステージ高さを一定として走査するものであって、前記トンネル電流を流さないで、前記プローブの先端と前記被測定試料との間隔を一定として走査して、前記SQUID顕微鏡部により当該走査ライン上の磁場信号を検出するステップと、
を実行するように構成されたことを特徴とするSQUID顕微鏡。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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超伝導量子干渉素子顕微鏡用センサーとその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-029985
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
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SQUID顕微鏡の磁場印加装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-189031
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
-
高密度記録媒体及びその記録再生装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-316124
Applicant：シャープ株式会社
Cited by examiner (3)
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超伝導量子干渉素子顕微鏡用センサーとその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-029985
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
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SQUID顕微鏡の磁場印加装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-189031
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
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高密度記録媒体及びその記録再生装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-316124
Applicant：シャープ株式会社
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