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J-GLOBAL ID：201403064872674458

金属化合物

Inventor： 水野 哲孝 ,  鈴木 康介 ,  菊川 雄司 ,  米原 宏司 ,  住田 康隆 ,  山▲崎▼ 勇英
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013097978
Publication number (International publication number)：2014217802
Application date： May. 07, 2013
Publication date： Nov. 20, 2014
Summary：

【課題】 新しい機能性材料等として有望な新規な金属化合物を提供する。【解決手段】 欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を少なくとも1つ有する金属化合物であって、該ヘテロポリオキソメタレート化合物は、ヘテロ原子に対してポリ原子が酸素原子を介して配位した構造を有し、該金属化合物は、一欠損構造部位、二欠損構造部位及び三欠損構造部位からなる群より選択される少なくとも1つの欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を有し、ヘテロ原子及びポリ原子とは異なる金属原子を含み、該一欠損又は二欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si、Ge及びZnからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、該三欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si及びGeからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、該金属原子は、ランタノイド、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Znからなる群より選択される少なくとも1種の原子であることを特徴とする金属化合物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を少なくとも1つ有する金属化合物であって、 該ヘテロポリオキソメタレート化合物は、ヘテロ原子に対してポリ原子が酸素原子を介して配位した構造を有し、 該金属化合物は、一欠損構造部位、二欠損構造部位及び三欠損構造部位からなる群より選択される少なくとも1つの欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を有し、ヘテロ原子及びポリ原子とは異なる金属原子を含み、 該一欠損又は二欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si、Ge及びZnからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、 該三欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si及びGeからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、 該金属原子は、ランタノイド、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Znからなる群より選択される少なくとも1種の原子であることを特徴とする金属化合物。

IPC (5)：

B01J 31/02 ,  C01B 25/45 ,  C07C 211/63 ,  C01G 41/00 ,  C01B 33/20

FI (5)：

B01J31/02 102Z ,  C01B25/45 Z ,  C07C211/63 ,  C01G41/00 B ,  C01B33/20

F-Term (57)：

4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08 ,  4G073BA17 ,  4G073BA30 ,  4G073BA32 ,  4G073BA36 ,  4G073BA40 ,  4G073BA44 ,  4G073BA48 ,  4G073BA49 ,  4G073BA52 ,  4G073BB06 ,  4G073BB48 ,  4G073UA03 ,  4G073UB29 ,  4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BC23A ,  4G169BC23B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC32A ,  4G169BC32B ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC41A ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169CB07 ,  4G169CB21 ,  4G169DA02 ,  4G169DA06 ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB91

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• オレフィン化合物の酸化生成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-258538   Applicant：旭化成株式会社, 財団法人野口研究所
• アルカンの酸化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-132472   Applicant：三菱化学株式会社
• 酸塩基反応、酸化物分解反応及び酸化反応用ヘテロポリオキソメタレート化合物触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-323906   Applicant：株式会社日本触媒
• ヘテロポリオキソメタレート化合物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-352121   Applicant：株式会社日本触媒

Cited by examiner (4)

• オレフィン化合物の酸化生成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-258538   Applicant：旭化成株式会社, 財団法人野口研究所
• アルカンの酸化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-132472   Applicant：三菱化学株式会社
• 酸塩基反応、酸化物分解反応及び酸化反応用ヘテロポリオキソメタレート化合物触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-323906   Applicant：株式会社日本触媒
• ヘテロポリオキソメタレート化合物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-352121   Applicant：株式会社日本触媒