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J-GLOBAL ID：201403075439417175

スポレーション評価システムおよび画像処理プログラム、並びに消弧装置

Inventor： 田中 康規 ,  新清 直樹 ,  網谷 和浩 ,  上杉 喜彦 ,  岡部 成光 ,  和田 純一
Applicant, Patent owner： 国立大学法人金沢大学 ,  東京電力株式会社
Agent (1)： 特許業務法人 アクア特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010201586
Publication number (International publication number)：2012059539
Patent number：5630165
Application date： Sep. 09, 2010
Publication date： Mar. 22, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】 ポリマー材料にアークプラズマを照射するプラズマ照射部と、 前記ポリマー材料の表面付近の様子を高速に連続撮像可能な撮像部と、 前記高速に連続撮像した複数の画像を処理して、スポレーション粒子の軌跡が表示された合成画像を出力する画像処理部と、 前記合成画像を解析して、前記スポレーション粒子の飛散範囲若しくは飛散高さ、または密度の少なくともいずれか1つを評価するスポレーション評価部とを有し、 前記画像処理部は、ピクセルごとに、前記高速に連続撮像した複数枚の画像の中から明度が最大となる値を選択し、各ピクセルに選択された値を設定することによって前記合成画像を生成することを特徴とするスポレーション評価システム。

IPC (1)：

H01H 33/00 ( 200 6.01)

FI (1)：

H01H 33/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 物質中に存在する化学元素の同位体選択的測定方法及び測定システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-574914   Applicant：エウロペイシュゲマインシャフト
• ガス遮断器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-151630   Applicant：株式会社日立製作所
• 中性子散乱施設用ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-015826   Applicant：日本原子力研究所, 石川島播磨重工業株式会社

Cited by examiner (3)

• 物質中に存在する化学元素の同位体選択的測定方法及び測定システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-574914   Applicant：エウロペイシュゲマインシャフト
• ガス遮断器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-151630   Applicant：株式会社日立製作所
• 中性子散乱施設用ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-015826   Applicant：日本原子力研究所, 石川島播磨重工業株式会社