汚染物質の除去方法、磁性除染剤およびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：阿仁屋節雄 , 清野仁 , 奥山知洋 , 橋村一誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013087152
Publication number (International publication number)：2014211341
Application date： Apr. 18, 2013
Publication date： Nov. 13, 2014
Summary：

【課題】放射性セシウム等の汚染物質を含有する被処理物から、磁性を有する除染剤を用いて当該汚染物質を吸着して除去する際に、当該汚染物質を吸着した着磁物の嵩を減容できる汚染物質の除去方法を提供する。【解決手段】汚染物質を含む被処理物をスラリー化し、当該スラリーのpHをアルカリ性に調整した後、1回目の磁力選別をおこなって、当該スラリーから磁性物質を除去する工程と、前記磁性物質が除去されたスラリーへ磁性除染剤を添加し、当該磁性除染剤へ汚染物質を吸着させた後、2回目の磁力選別をおこなって、当該磁性物質が除去されたスラリーから汚染物質を吸着した磁性除染剤を回収する工程とを、具える汚染物質の除去方法を提供する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

汚染物質を含む被処理物をスラリー化し、当該スラリーのpHをアルカリ性に調整した後、1回目の磁力選別を行い、当該スラリーから磁性物質を除去する工程と、前記磁性物質が除去されたスラリーへ磁性除染剤を添加し、当該磁性除染剤へ汚染物質を吸着させた後、2回目の磁力選別を行い、当該磁性物質が除去されたスラリーから汚染物質を吸着した磁性除染剤を回収する工程とを、具えることを特徴とする汚染物質の除去方法。

IPC (4)：

G21F 9/06 , B01J 20/02 , G21F 9/12 , H01F 1/20

FI (5)：

G21F9/06 531 , B01J20/02 B , G21F9/12 501B , G21F9/12 501J , H01F1/20

F-Term (22)：

4G066AA02D , 4G066AA41A , 4G066AA41B , 4G066AA47A , 4G066AA51A , 4G066AA51B , 4G066AC12D , 4G066AC33D , 4G066BA09 , 4G066BA11 , 4G066BA38 , 4G066CA12 , 4G066CA45 , 4G066FA11 , 4G066FA37 , 4G066GA25 , 5E041AA01 , 5E041AA05 , 5E041BC05 , 5E041CA10 , 5E041HB14 , 5E041HB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

放射性物質類除染システム、及び放射性物質類の除染方法、及び除染用磁性複合粒子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-227470 Applicant：学校法人慈恵大学
飛灰の処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-193227 Applicant：太平洋セメント株式会社
セメントの湿式製造装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-198923 Applicant：太平洋セメント株式会社

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