下地剤及びパターン形成方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013137276
Publication number (International publication number)：2014185311
Application date： Jun. 28, 2013
Publication date： Oct. 02, 2014
Summary：

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤であって、用いるブロックコポリマー種により、簡易に使い分けを達成することができる下地剤、及び該下地剤を用いたブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法の提供。【解決手段】基板上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香族環含有モノマー由来の構成単位を90モル%以上含み、メタクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される構成単位を5%モル以下含むことを特徴とする下地剤。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香族環含有モノマー由来の構成単位を90モル%以上含み、メタクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される構成単位を5モル%以下含むことを特徴とする下地剤。

IPC (6)：

C09D 125/00 , B05D 7/24 , H01L 21/312 , B82Y 40/00 , B82Y 30/00 , C09D 5/00

FI (8)：

C09D125/00 , B05D7/24 302P , H01L21/312 A , H01L21/312 C , H01L21/312 M , B82Y40/00 , B82Y30/00 , C09D5/00 D

F-Term (29)：

4D075AE03 , 4D075BB21Z , 4D075BB93Z , 4D075CB40 , 4D075DA06 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA41 , 4D075EB22 , 4J038CC011 , 4J038CC021 , 4J038CG011 , 4J038CJ021 , 4J038CJ031 , 4J038PB09 , 5F058AB05 , 5F058AB06 , 5F058AB07 , 5F058AB10 , 5F058AC03 , 5F058AC10 , 5F058AD05 , 5F058AD09 , 5F058AE01 , 5F058AE04 , 5F058AE05 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F146AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

微細構造を有する高分子薄膜およびパターン基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-220680 Applicant：株式会社日立製作所
ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-205890 Applicant：東京応化工業株式会社, 独立行政法人理化学研究所
下地中性膜を用いたマスクパターン積層体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2012-099872 Applicant：旭化成イーマテリアルズ株式会社

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