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J-GLOBAL ID:201403078416905457

ホイスラー合金材料、磁気抵抗素子および磁気デバイス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009077606
Publication number (International publication number):2010229477
Patent number:5413646
Application date: Mar. 26, 2009
Publication date: Oct. 14, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】 Co2(FexMn1-x)Si合金(x=0.1〜0.9)の組成比を有することを、特徴とするホイスラー合金材料。
IPC (7):
C22C 19/07 ( 200 6.01) ,  H01L 43/08 ( 200 6.01) ,  H01L 43/10 ( 200 6.01) ,  H01F 10/16 ( 200 6.01) ,  H01F 10/32 ( 200 6.01) ,  H01F 10/28 ( 200 6.01) ,  H01F 41/22 ( 200 6.01)
FI (7):
C22C 19/07 C ,  H01L 43/08 M ,  H01L 43/08 Z ,  H01F 10/16 ,  H01F 10/32 ,  H01F 10/28 ,  H01F 41/22
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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