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J-GLOBAL ID：201403081048754134

固体電解質薄膜の作製方法

Inventor： 中尾 友子 ,  高橋 雅也 ,  辰巳砂 昌弘 ,  忠永 清治 ,  林 晃敏
Applicant, Patent owner： ラサ工業株式会社 ,  地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 ,  公立大学法人大阪府立大学
Agent (1)： 沖中 仁
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010148415
Publication number (International publication number)：2012014885
Patent number：5431257
Application date： Jun. 30, 2010
Publication date： Jan. 19, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】直径が0.15〜0.25mmに設定されたノズルを備えたチャンバの内部に基板を配置する準備工程と、 前記チャンバの内部圧力を20〜80Paに調整しながら減圧する減圧工程と、 前記ノズルから前記基板の表面にLi4SiO4-Li3PO4を含むエアロゾルを吹き付ける吹付工程と、 前記ノズルに対して前記基板を、相対移動速度を0.5〜1.0mm/秒に調整しながら相対移動させ、当該基板の表面全体に前記Li4SiO4-Li3PO4の薄膜を形成する膜形成工程と、 を包含する固体電解質薄膜の作製方法。

IPC (5)：

H01M 10/0562 ( 201 0.01) ,  C01B 33/32 ( 200 6.01) ,  H01B 13/00 ( 200 6.01) ,  H01B 1/06 ( 200 6.01) ,  C01B 25/30 ( 200 6.01)

FI (5)：

H01M 10/056 ,  C01B 33/32 ,  H01B 13/00 Z ,  H01B 1/06 A ,  C01B 25/30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-105962
  
• 非水系二次電池用電極及びこれを用いたリチウム二次電池。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-309506   Applicant：東芝電池株式会社
• 被膜形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-134651   Applicant：NTN株式会社