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J-GLOBAL ID:201403089426225197
レーザ加工装置及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 石田 悟
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2012217019
Publication number (International publication number):2013027930
Patent number:5575200
Application date: Sep. 28, 2012
Publication date: Feb. 07, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 板状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って、切断の起点となる改質領域を形成するレーザ加工装置であって、
前記加工対象物を支持する支持台と、
前記レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を変調する反射型空間光変調器と、
前記支持台によって支持された前記加工対象物の内部に、前記反射型空間光変調器によって変調された前記レーザ光を集光する集光光学系と、
前記改質領域を形成する際に、前記レーザ光の集光点が前記加工対象物のレーザ光入射面から所定の距離に位置し且つ前記レーザ光の集光点が前記切断予定ラインに沿って相対的に移動するように前記支持台及び前記集光光学系の少なくとも1つを制御すると共に、前記加工対象物の内部において前記レーザ光の波面が所定の波面となるように前記反射型空間光変調器を制御する制御部と、
前記集光光学系及び前記反射型空間光変調器が設置される筐体と、を備え、
前記制御部は、前記加工対象物の厚さ方向に並ぶように前記切断予定ラインに沿って複数列形成される前記改質領域毎に、前記レーザ光の集光点が前記加工対象物の厚さ方向において前記レーザ光入射面から所定の深さ位置に位置するように前記支持台及び前記筐体の少なくとも1つを制御するための制御信号と、前記加工対象物の内部における前記レーザ光入射面からの所定の深さ位置において前記レーザ光の集光点の波面が所定の波面となるように前記反射型空間光変調器を制御するための制御信号とを、前記加工対象物の前記レーザ光入射面からの深さ位置毎に互いに対応付けて記憶していることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4):
B23K 26/53 ( 201 4.01)
, B23K 26/064 ( 201 4.01)
, B23K 26/00 ( 201 4.01)
, B23K 26/046 ( 201 4.01)
FI (4):
B23K 26/53
, B23K 26/064 Z
, B23K 26/00 M
, B23K 26/046
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-235037
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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レーザ加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-320459
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
レーザ照射装置およびレーザスクライブ方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-209554
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
収差補正装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-380242
Applicant:パイオニア株式会社
-
波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-110303
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
波面制御素子及び液晶レンズ並びに収差補正素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-429423
Applicant:旭硝子株式会社
-
顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-081540
Applicant:オリンパス株式会社
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Cited by examiner (7)
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レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-235037
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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レーザ加工装置
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Application number:特願2005-320459
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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レーザ照射装置およびレーザスクライブ方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-209554
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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収差補正装置及び方法
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Application number:特願2000-380242
Applicant:パイオニア株式会社
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波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体
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Application number:特願2004-110303
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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波面制御素子及び液晶レンズ並びに収差補正素子
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Application number:特願2003-429423
Applicant:旭硝子株式会社
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顕微鏡
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Application number:特願2004-081540
Applicant:オリンパス株式会社
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