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J-GLOBAL ID：201502218130305534   Reference number：15A0828930

Effect of Oxidation-Induced Strain on Thermal Decomposition of Ultrathin Oxide Grown on Si(111) and Si(111) Surfaces

Si(001)およびSi(111)表面上で成長させた超薄酸化物の熱分解に関する酸化誘起歪の効果

Author (7)： TANG Jiayi (Tohoku Univ., JPN) ,  OGAWA Shuichi (Tohoku Univ., JPN) ,  YOSHIGOE Akitaka (JAEA, JPN) ,  NISHIMOTO Kiwamu (Tohoku Univ., JPN) ,  ISHIDZUKA Shinji (Akita Nat. Col. Technol., JPN) ,  TERAOKA Yuden (JAEA, JPN) ,  TAKAKUWA Yuji (Tohoku Univ., JPN)
Material： Program/Abstracts of ISSS (CD-ROM)  (Program/Abstracts. International Symposium on Surface Science (CD-ROM))
Volume： 7th  Page： ROMBUNNO.6PN-72  Publication year： 2014 
JST Material Number： L8395B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *thermal decomposition ,  *ultrathin film ,  *silicon dioxide ,  substrate (plate) ,  silicon ,  crystal orientation ,  lattice distortion ,  *X-ray photoelectron spectrum ,  curve fitting ,  spectral line shape

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electron spectroscopy  (BM09060K)

Terms in the title (7)： Si ,  成長 ,  酸化物 ,  熱分解 ,  酸化 ,  誘起 ,  歪