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J-GLOBAL ID：201502257573340973   Reference number：15A0472729

Si(110)-16×2シングルドメイン清浄表面への水素吸着過程とその表面物性

Author (4)： KAKIUCHI TAKUHIRO (愛媛大) ,  NAKANO YUJI (愛媛大) ,  NAGAOKA SHIN'ICHI (愛媛大) ,  MASE KAZUHIKO (KEK-PF)
Material： 物構研サイエンスフェスタ要旨集
Volume： 3rd  Page： 55  Publication year： 2015 
JST Material Number： L2365B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Adsorption ,  Hydrogen ,  silicon ,  physical property ,  surface structure ,  *X-ray photoelectron spectrum ,  *Auger spectrum ,  electronic state ,  *hydrogen adsorption ,  surface physical properties ,  *surface electronic state ,  structure

JST classification (1)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P)

Terms in the title (6)： Si ,  ドメイン ,  清浄表面 ,  水素吸着 ,  過程 ,  表面物性