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J-GLOBAL ID：201503003656614431

液相レーザー法を利用したリン酸カルシウム成膜方法

Inventor： 大矢根 綾子 ,  川口 建二 ,  越崎 直人 ,  坂巻 育子
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010170273
Publication number (International publication number)：2012030993
Patent number：5817956
Application date： Jul. 29, 2010
Publication date： Feb. 16, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】 リン酸カルシウム過飽和溶液中に設置された基材表面にレーザー光を照射するという1段階の工程で、該基材表面にリン酸カルシウムの皮膜を形成させることを特徴とする、リン酸カルシウムの成膜方法。

IPC (2)：

C01B 25/32 ( 200 6.01) ,  C23C 26/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C01B 25/32 B ,  C23C 26/00 C ,  C23C 26/00 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト-蛋白質複合体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-225387   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• ヒドロキシアパタイト粒子、ヒドロキシアパタイト粒子分散物、及びこれらを用いたヒドロキシアパタイト膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-250112   Applicant：富士フイルム株式会社
• リン酸カルシウム微粒子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-360876   Applicant：セルメディシン株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人早稲田大学
• リン酸三カルシウム、その複合体、それらを組み入れたインプラント、及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-522565   Applicant：アングストロームメディカインコーポレイテッド
• 磁気記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-094140   Applicant：富士フイルム株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Bioactivity of polycrystalline silicon layers