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J-GLOBAL ID:200903073899436787

ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト-蛋白質複合体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小越 勇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007225387
Publication number (International publication number):2009057234
Application date: Aug. 31, 2007
Publication date: Mar. 19, 2009
Summary:
【課題】レーザー技術(低エネルギーレーザー光の照射)を利用して材料上に、アパタイト前駆体のパターンを効率良く形成させる技術を提供する。そして、照射条件の最適化と非接触なマスクの利用により、アパタイトパターンを直接ポリマーなどのソフトな材料上に簡便に作製できる技術を提供する。【解決手段】カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト生成核を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト前駆体を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。
IPC (1):
C01B 25/32
FI (3):
C01B25/32 Q ,  C01B25/32 V ,  C01B25/32 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (5)
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