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J-GLOBAL ID：200903073899436787

ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト-蛋白質複合体の製造方法

Inventor： 越崎 直人 ,  リー ベクヒー ,  大矢根 綾子 ,  鶴嶋 英夫 ,  清水 禎樹
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007225387
Publication number (International publication number)：2009057234
Application date： Aug. 31, 2007
Publication date： Mar. 19, 2009
Summary：

【課題】レーザー技術(低エネルギーレーザー光の照射)を利用して材料上に、アパタイト前駆体のパターンを効率良く形成させる技術を提供する。そして、照射条件の最適化と非接触なマスクの利用により、アパタイトパターンを直接ポリマーなどのソフトな材料上に簡便に作製できる技術を提供する。【解決手段】カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト生成核を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト前駆体を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。

IPC (1)：

C01B 25/32

FI (3)：

C01B25/32 Q ,  C01B25/32 V ,  C01B25/32 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• アパタイトのマイクロパターン形成方法とこの方法で形成されたアパタイトシート並びにその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-076053   Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構
• 特開昭63-196281
  
• USP2003/0203002A1
  
• レーザーによるコーティング装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-341646   Applicant：中山斌義, 米澤卓実, 森山文彦
• WO 1997/046727
  

Cited by examiner (5)

• アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-104926   Applicant：八尾健, ティーアンドティーアソシエイツ有限会社
• リン酸カルシウム微粒子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-360876   Applicant：セルメディシン株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人早稲田大学
• ハイドロキシアパタイトと生体化合物溶解水溶液の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-192914   Applicant：山崎拓
• 特開平4-182306
  
• レーザーによるコーティング装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-341646   Applicant：中山斌義, 米澤卓実, 森山文彦