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J-GLOBAL ID:201503012914734004
汚染物除去装置及び方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
, 松下 満
, 倉澤 伊知郎
, 山本 泰史
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2015512839
Publication number (International publication number):2015525464
Application date: May. 16, 2013
Publication date: Sep. 03, 2015
Summary:
基板ドライ洗浄装置、基板ドライ洗浄システム、及び基板を洗浄する方法を開示する。基板ドライ洗浄システムは、基板支持体及び反応種発生器を含む。反応種発生器は、導管の出口まで延びる第1の流れチャネルを形成し、導管の出口が基板支持体に対面する第1の導管と、第1の電極と、第1の電極と対面し、第1の電極との間に第1の流れチャネルが配置された第2の電極と、第1の電極と第1の流れチャネルの間に配置された第1の不活性壁と、第2の電極と第1の流れチャネルの間に配置された第2の不活性壁とを含む。【選択図】図8
Claim (excerpt):
第1の流れチャネルを形成し、該第1の流れチャネルと流体連通する第1の出口開口を更に形成する第1の導管と、
容器に配置された第1の電極と、
前記第1の電極と対面し、該第1の電極との間に前記第1の流れチャネルが配置された第2の電極と、
低い大気圧融点を有し、前記第1の電極と前記容器の間の間隙を充填する金属と、
を含むことを特徴とする基板ドライ洗浄装置。
IPC (5):
H01L 21/304
, B08B 7/00
, H05H 1/30
, H05H 1/24
, H05H 3/02
FI (6):
H01L21/304 645C
, B08B7/00
, H01L21/304 645Z
, H05H1/30
, H05H1/24
, H05H3/02
F-Term (38):
2G084AA03
, 2G084AA13
, 2G084BB11
, 2G084CC19
, 2G084CC34
, 2G084DD12
, 2G084DD13
, 2G084DD18
, 2G084DD22
, 2G084DD63
, 2G084DD65
, 2G084FF02
, 2G084FF13
, 2G084FF15
, 2G084FF31
, 2G084FF38
, 2G084GG02
, 2G084GG03
, 2G084GG07
, 2G084GG18
, 2G084GG23
, 2G084GG29
, 2G084HH09
, 2G084HH36
, 2G085BB17
, 2G085EA08
, 3B116AA01
, 3B116BA06
, 3B116BB32
, 3B116BB89
, 3B116BC01
, 5F157AA42
, 5F157AA43
, 5F157BD35
, 5F157BD43
, 5F157BG33
, 5F157BG35
, 5F157BG39
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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一体形基板クリーニングシステム及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2013-536870
Applicant:レイヴエヌ.ピー.インコーポレイテッド
-
基板から酸化金属を除去する装置及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-533461
Applicant:ラムリサーチコーポレーション
-
基板からフッ素化ポリマーを除去する装置及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-533419
Applicant:ラムリサーチコーポレーション
-
常圧プラズマジェットを使用したコーティングのデポジット
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-517124
Applicant:ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア, ババイアンスティーブイー, セルウィンゲーリーエス, ヒックスロバートエフ
-
大気圧プラズマ噴流
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-534728
Applicant:ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア, セルウィンゲアリーエス
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低温プラズマ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-156584
Applicant:野村電子工業株式会社
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Cited by examiner (1)
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一体形基板クリーニングシステム及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2013-536870
Applicant:レイヴエヌ.ピー.インコーポレイテッド
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