プラズマ源、イオン源、及び、イオン生成方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015015930
Publication number (International publication number)：2015149279
Application date： Jan. 29, 2015
Publication date： Aug. 20, 2015
Summary：

【課題】内包フラーレンを大量に生成するため、イオン化確率が大きく、高いイオン電流でプラズマを生成することのできる金属プラズマ源の提供。【解決手段】内包対象原子として例えばLiを用いる場合、金属昇華オーブン5にLiが充填されており、電熱線7で加熱することによりLi蒸気を発生させ、ノズル状の金属蒸気導入管6を通して加熱金属体4に向けてLi蒸気を噴射する。この時、同時に、光源9から光を加熱金属体4に照射する。光源として、例えば、波長694nmのルビーレーザー光源を用いる。波長694nmの光は、Li原子中の電子に1.79eVのエネルギーを与えるので、電子は励起されて加熱金属体の空位の状態エネルギーに移りやすくなるので、イオン化確率が向上する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

金属からなる蒸気を加熱金属体に噴射し、同時に、前記加熱金属体に光を照射することにより金属イオンを生成するイオン源及びプラズマ源。

IPC (6)：

H05H 1/24 , B82Y 40/00 , H01J 27/26 , H01J 37/08 , H01J 27/24 , C01B 31/02

FI (6)：

H05H1/24 , B82Y40/00 , H01J27/26 , H01J37/08 , H01J27/24 , C01B31/02 101F

F-Term (10)：

4G146AA08 , 4G146AA13 , 4G146AA16 , 4G146AB07 , 4G146CB16 , 4G146CB17 , 4G146CB34 , 4G146DA16 , 5C030DF01 , 5C030DG09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-295958 Applicant：松下電工株式会社
光利用熱電子発電方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-260140 Applicant：科学技術振興事業団
特開昭50-075602

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

プラズマの生成

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