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J-GLOBAL ID:201503018061487336

電子スピン偏極イオンビーム発生方法及びその発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011166145
Publication number (International publication number):2013029435
Patent number:5804256
Application date: Jul. 29, 2011
Publication date: Feb. 07, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 希ガス元素イオンからなるイオンビームを発生させる工程と、 前記イオンビームを標的の一面に入射して、散乱イオンビームを出射させる工程と、 前記散乱イオンビームを静電アナライザ内に取り込んで、電界を印加して、電子スピン偏極イオンビームを発生させる工程と、を有する電子スピン偏極イオンビーム発生方法であって、 前記イオンビームを標的の一面に入射する際、前記イオンビームの入射方向と前記散乱イオンビームの出射方向の両者を含む散乱面に対して、磁場の方向が80°以上100°以下の方向となるように、前記標的に磁場を印加することを特徴とする電子スピン偏極イオンビーム発生方法。
IPC (2):
G21K 1/00 ( 200 6.01) ,  G01N 27/62 ( 200 6.01)
FI (2):
G21K 1/00 A ,  G01N 27/62 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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