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J-GLOBAL ID:201503018061487336
電子スピン偏極イオンビーム発生方法及びその発生装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011166145
Publication number (International publication number):2013029435
Patent number:5804256
Application date: Jul. 29, 2011
Publication date: Feb. 07, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 希ガス元素イオンからなるイオンビームを発生させる工程と、
前記イオンビームを標的の一面に入射して、散乱イオンビームを出射させる工程と、
前記散乱イオンビームを静電アナライザ内に取り込んで、電界を印加して、電子スピン偏極イオンビームを発生させる工程と、を有する電子スピン偏極イオンビーム発生方法であって、
前記イオンビームを標的の一面に入射する際、前記イオンビームの入射方向と前記散乱イオンビームの出射方向の両者を含む散乱面に対して、磁場の方向が80°以上100°以下の方向となるように、前記標的に磁場を印加することを特徴とする電子スピン偏極イオンビーム発生方法。
IPC (2):
G21K 1/00 ( 200 6.01)
, G01N 27/62 ( 200 6.01)
FI (2):
G21K 1/00 A
, G01N 27/62 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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偏極イオンビーム発生装置と偏極イオンビーム発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-175501
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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特開昭62-006148
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ヘリウム3で動作する原子時計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-132868
Applicant:コミッサリアアレネルジーアトミークエオゼネルジザルタナテイヴ
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エネルギーアナライザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-186246
Applicant:株式会社日立製作所
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