Pat
J-GLOBAL ID：201503045822266394

インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

Inventor：
村上 洋介

About 村上 洋介


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (6)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014083998
Publication number (International publication number)：2014241396
Application date： Apr. 15, 2014
Publication date： Dec. 25, 2014
Summary：
【課題】基板上に形成されたショット領域にモールドのパターンを精度よく転写する上で有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させることにより前記基板上のショット領域に前記モールドのパターンを転写するインプリント装置は、前記基板における複数の部分の各々を加熱することにより当該ショット領域の形状を変形させる加熱部と、制御部と、を含み、前記制御部は、前記ショット領域の形状が目標形状に近づくように前記複数の部分の各々における加熱プロファイルを生成し、生成した前記加熱プロファイルに従って前記複数の部分の各々を加熱するように前記加熱部を制御する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させることにより前記基板上のショット領域に前記モールドのパターンを転写するインプリント装置であって、 前記基板における複数の部分の各々を加熱することにより当該ショット領域の形状を変形させる加熱部と、 制御部と、 を含み、 前記制御部は、前記ショット領域の形状が目標形状に近づくように前記複数の部分の各々における加熱プロファイルを生成し、生成した前記加熱プロファイルに従って前記複数の部分の各々を加熱するように前記加熱部を制御する、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
F-Term (21)：
4F209AA45 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH38 ,  4F209AP05 ,  4F209AP10 ,  4F209AR06 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146DA07 ,  5F146DA26 ,  5F146EB01 ,  5F146EB02 ,  5F146ED01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM