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J-GLOBAL ID：201303078741195841

インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Inventor：
林 達也

About 林 達也

, 
長谷川 敬恭

About 長谷川 敬恭


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高岡 亮一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011226639
Publication number (International publication number)：2013089663
Application date： Oct. 14, 2011
Publication date： May. 13, 2013
Summary：
【課題】インプリント処理に際し、基板上に予め存在するパターンと、新たに形成される樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置1は、第1波長と、特定の波長帯域に存在する第1波長以外の第2波長とを含む光9を受光し、第1波長の光と第2波長の光とに分離する光学素子21を含み、パターンを形成すべき基板10上の領域に予め存在する基板側パターン20を加熱させる基板加熱機構6と、パターンを形成するに際し、基板加熱機構6により、光学素子21にて分離された第2波長の光を用いて基板側パターン20を熱変形させることで、型8に形成されているパターン部8aの形状に対し、基板側パターン20の形状を補正させる制御部7とを備える。ここで、樹脂14は、特定の波長帯域に存在する第1波長の光を受光することで硬化する光硬化性樹脂である。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
基板上の未硬化樹脂を型により成形して硬化させて、前記基板上に硬化した樹脂のパターンを形成するインプリント装置であって、 前記樹脂は、特定の波長帯域に存在する第1波長の光を受光することで硬化する光硬化性樹脂であり、 前記インプリント装置は、 前記第1波長と、前記特定の波長帯域に存在する前記第1波長以外の第2波長とを含む光を受光し、前記第1波長の光と前記第2波長の光とに分離する光学素子を含み、前記パターンを形成すべき前記基板上の領域に予め存在する基板側パターンを加熱させる基板加熱機構と、 前記パターンを形成するに際し、前記基板加熱機構により、前記光学素子にて分離された前記第2波長の光を用いて前記基板側パターンを熱変形させることで、前記型に形成されているパターン部の形状に対し、前記基板側パターンの形状を補正させる制御部と、 を備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (3)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  H01L21/30 565
F-Term (16)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AK04 ,  4F209AK06 ,  4F209AM32 ,  4F209AP06 ,  4F209AQ01 ,  4F209AR06 ,  4F209AR07 ,  5F146AA31 ,  5F146DA02 ,  5F146DA07 ,  5F146DA26 ,  5F146DB05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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