過酸化水素製造方法、過酸化水素製造用キットおよび燃料電池

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：辻丸光一郎 , 中山ゆみ , 伊佐治創
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013522850
Patent number：5700347
Application date： Jun. 25, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】過酸化水素製造方法であって、水、水の酸化触媒、遷移金属錯体、および酸素(O2)を含む反応系に光照射して過酸化水素を発生させる過酸化水素発生工程を含み、前記遷移金属錯体が、下記化学式(1)で表される錯体であり、前記化学式(1)中、 M1は、ルテニウム、オスミウム、鉄、マンガン、クロム、コバルト、イリジウム、またはロジウムであり、 R1〜R24は、それぞれ独立に、水素原子または任意の置換基であり、または、R4およびR5は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、すなわち、R4およびR5はそれらの結合するビピリジン環と一体となってフェナントロリン環を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、 R12およびR13は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、すなわち、R12およびR13はそれらの結合するビピリジン環と一体となってフェナントロリン環を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、 R20およびR21は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、すなわち、R20およびR21はそれらの結合するビピリジン環と一体となってフェナントロリン環を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、 mは、正の整数、0、または負の整数である、ことを特徴とする、過酸化水素製造方法。

IPC (4)：

C01B 15/027 ( 200 6.01) , B01J 23/46 ( 200 6.01) , B01J 31/22 ( 200 6.01) , H01M 8/06 ( 200 6.01)

FI (4)：

C01B 15/027 , B01J 23/46 M , B01J 31/22 M , H01M 8/06 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

水の光酸化触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-042621 Applicant：東京瓦斯株式会社
特開昭64-014102
特開昭58-125602

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