描画装置及び描画方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：三浦邦夫 , 三浦邦陽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013209839
Publication number (International publication number)：2015075512
Application date： Oct. 07, 2013
Publication date： Apr. 20, 2015
Summary：

【課題】被描画体の傾斜形状の描画領域に対してパターンを描画する際に、傾斜描画領域にパターン光の焦点を合わせてパターンの解像度を高め、パターンの変形を防止し、傾斜描画領域のレジスト膜にパターン光を垂直に入射させてパターンの解像度を高めることができる描画装置及び描画方法を得る。【解決手段】光変調素子により描画光を被描画体に照射し、前記被描画体を前記描画光に対して連続的に走査しながら前記被描画体にパターンを描画する描画装置であって、前記被描画体を保持する保持手段と、前記保持手段によって保持された前記被描画体の被描画面の傾きを測定する測定手段と、前記保持手段の傾きを調整する傾き調整手段と、前記測定手段の測定結果に応じて、前記描画光が前記被描画体の被描画面に略垂直に入射するように、前記傾き調整手段を制御する傾き制御手段と、を備えることを特徴とする描画装置。【選択図】図8

Claim (excerpt)：

光変調素子により描画光を被描画体に照射し、前記被描画体を前記描画光に対して連続的に走査しながら前記被描画体にパターンを描画する描画装置であって、前記被描画体を保持する保持手段と、前記保持手段によって保持された前記被描画体の被描画面の傾きを測定する測定手段と、前記保持手段の傾きを調整する傾き調整手段と、前記測定手段の測定結果に応じて、前記描画光が前記被描画体の被描画面に略垂直に入射するように、前記傾き調整手段を制御する傾き制御手段と、を備えることを特徴とする描画装置。

IPC (5)：

G03F 7/24 , G03F 7/20 , H01L 21/027 , G02F 1/13 , H05K 3/00

FI (7)：

G03F7/24 G , G03F7/24 Z , G03F7/20 501 , H01L21/30 526A , G02F1/13 101 , H05K3/00 H , H05K3/00 G

F-Term (18)：

2H088FA16 , 2H088FA17 , 2H088FA18 , 2H088FA30 , 2H088MA20 , 2H097AA03 , 2H097AA16 , 2H097BA01 , 2H097GB04 , 2H097LA09 , 2H097LA12 , 5F146BA07 , 5F146CC01 , 5F146CC03 , 5F146CC13 , 5F146DA14 , 5F146DB05 , 5F146DC09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板テーブル
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-320258 Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光装置および基板の傾き補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-205240 Applicant：キヤノン株式会社
リソグラフィ装置及び装置製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-155593 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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