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J-GLOBAL ID：200903076634083733

リソグラフィ装置及び装置製造方法

Inventor：
アーノルド、シンケ

About アーノルド、シンケ

, 
ヤン ハウシルト

About ヤン ハウシルト


Applicant, Patent owner：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

About エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006155593
Publication number (International publication number)：2006352112
Application date： Jun. 05, 2006
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：
【課題】ウェハ表面トポグラフィの補償を改善すること。【解決手段】本発明は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、露光スリット領域を通して放射ビームを基板の目標部分上に投影するように構成された投影システムと、放射ビームにその断面においてパターンを付与してパターン形成された放射ビームを形成するように構成されたパターン形成デバイスであって、パターン形成された放射ビームが、基板の目標部分において焦点深度(DOF)にわたって合焦する、パターン形成デバイスと、目標部分の少なくとも一部分の表面トポグラフィを測定するように構成された測定システムと、を含み、露光スリット領域の寸法を調節して、表面トポグラフィ変動がその上で焦点深度に等しい又はそれより小さい、調節された露光スリット領域を形成するように、投影システムが構成される、リソグラフィ装置を提供する。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
リソグラフィ装置であって、 基板を保持するように構築された基板テーブルと、 露光スリット領域を通して放射ビームを前記基板の目標部分上に投影するように構成された投影システムと、 前記放射ビームにその断面においてパターンを付与してパターン形成された放射ビームを形成することが可能なパターン形成デバイスであって、前記パターン形成された放射ビームが、前記基板の前記目標部分において、焦点深度(DOF)にわたって合焦する、パターン形成デバイスと、 前記目標部分の少なくとも一部分の表面トポグラフィを測定するように構成された測定システムとを含み、 前記露光スリット領域の寸法を調節し、表面トポグラフィ変動がその上で前記焦点深度に等しい又はそれより小さい調節された露光スリット領域を形成するように、前記投影システムが構成される、リソグラフィ装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (5)：
H01L21/30 514C ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 514E ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 526Z
F-Term (5)：
5F046AA11 ,  5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046DA14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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