光測定装置、光測定方法、フィルタ部材及びフィルタ部材を生産する方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：羽立幸司 , 峰雅紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014064415
Publication number (International publication number)：2015083962
Application date： Mar. 26, 2014
Publication date： Apr. 30, 2015
Summary：

【課題】色素を分散させた光学フィルタの当初のフィルタ機能を維持することが可能な光測定装置等を提供することを目的とする。【解決手段】測定対象からの特定の波長の光である測定対象光の光強度を測定する測定部を備える光測定装置であって、色素を有する光学フィルタ部と、前記光学フィルタ部からの前記色素の拡散を抑制する色素拡散抑制部とを備え、前記光学フィルタ部は、前記測定対象からの前記測定対象光が前記測定部に到達するまでに通過する光路の一部を構成する、光測定装置である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象からの特定の波長の光である測定対象光の光強度を測定する測定部を備える光測定装置であって、色素を有する光学フィルタ部と、前記光学フィルタ部からの前記色素の拡散を抑制する色素拡散抑制部とを備え、前記光学フィルタ部は、前記測定対象からの前記測定対象光が前記測定部に到達するまでに通過する光路の一部を構成する、光測定装置。

IPC (2)：

G01N 21/64 , G02B 5/20

FI (2)：

G01N21/64 Z , G02B5/20

F-Term (16)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043CA03 , 2G043EA01 , 2G043GA04 , 2G043GB16 , 2G043HA01 , 2G043JA02 , 2G043KA02 , 2G043KA05 , 2G043KA09 , 2G043LA02 , 2G043MA01 , 2G043MA06 , 2H148AA14 , 2H148AA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

近赤外線吸収性能の面分布測定方法、及び近赤外線吸収フィルタの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-189617 Applicant：大日本印刷株式会社
光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-104163 Applicant：株式会社エス・テイ・ジャパン
決定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-146937 Applicant：エスエイ・テキサコ・ベルジャン・エヌヴイ

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