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J-GLOBAL ID：201503086000898621

アミド化合物の製造方法とその触媒

Inventor： 小林 修 ,  スレ ジャン-フランソワ ,  宮村 浩之 ,  相田 冬樹 ,  岡崎 素也
Applicant, Patent owner： JX日鉱日石エネルギー株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
Agent (4)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011206366
Publication number (International publication number)：2013067576
Patent number：5692704
Application date： Sep. 21, 2011
Publication date： Apr. 18, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 架橋性官能基を含む側鎖を有するスチレン系高分子の該架橋性官能基を架橋させてなる担体と、該担体に担持されたナノサイズクラスター及びカーボンブラックとを有する触媒の存在下、一級アルコールと、一級アミン、二級アミン及び一級アミン又は二級アミンと無機酸又は有機酸との塩から選ばれる少なくとも1種と、からアミド化合物を得る工程を備え、 前記ナノサイズクラスターが、金からなるナノサイズクラスター並びに金と鉄、コバルト及びニッケルから選ばれる少なくとも1種とのナノサイズクラスターから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とするアミド化合物の製造方法。

IPC (16)：

C07C 231/10 ( 200 6.01) ,  C07C 233/65 ( 200 6.01) ,  C07C 233/08 ( 200 6.01) ,  C07C 233/58 ( 200 6.01) ,  C07C 233/11 ( 200 6.01) ,  C07C 233/09 ( 200 6.01) ,  C07C 233/05 ( 200 6.01) ,  C07C 233/66 ( 200 6.01) ,  C07C 233/83 ( 200 6.01) ,  C07C 235/44 ( 200 6.01) ,  B01J 31/28 ( 200 6.01) ,  B01J 31/26 ( 200 6.01) ,  C07D 213/81 ( 200 6.01) ,  C07D 307/68 ( 200 6.01) ,  C07D 295/10 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (16)：

C07C 231/10 ,  C07C 233/65 ,  C07C 233/08 ,  C07C 233/58 ,  C07C 233/11 ,  C07C 233/09 B ,  C07C 233/05 ,  C07C 233/66 ,  C07C 233/83 ,  C07C 235/44 ,  B01J 31/28 Z ,  B01J 31/26 Z ,  C07D 213/81 ,  C07D 307/68 ,  C07D 295/10 Z ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 酸化反応用高分子担持金クラスター触媒、それを用いたカルボニル化合物の製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-059010   Applicant：独立行政法人科学技術振興機構
• アミド化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-177306   Applicant：大学共同利用機関法人自然科学研究機構