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J-GLOBAL ID：201602210147914956   Reference number：16A0131265

Experimental Study of Numerical Optimization for 3-D Microstructuring Using DMD-Based Grayscale Lithography

DMDベースのグレースケールリソグラフィを使った3D微細構造のための数値最適化の実験研究

Author (7)： MA Xiaoxu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KATO Yoshiki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  VAN KEMPEN Floris (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  HIRAI Yoshikazu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUCHIYA Toshiyuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  VAN KUELEN Fred (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  TABATA Osamu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Journal of Microelectromechanical Systems  (J Microelectromechanical Syst)
Volume： 24  Issue： 6  Page： 1856-1867  Publication year： Dec. 2015 
JST Material Number： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *three dimension ,  *micro structure ,  *photolithography ,  reflecting mirror ,  *gray scale ,  optimization ,  computer simulation ,  photoresist ,  structure ,  sensitivity analysis
Semi thesaurus term： process optimization ,  micromirror ,  lithography simulation ,  three-dimensional structure

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 3D ,  微細構造 ,  数値最適化 ,  実験 ,  研究