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J-GLOBAL ID：201602210972138659   Reference number：16A0193957

A study on the factors that affect the advanced mask defect verification

高度マスク欠陥検査に影響を与える要因に関する研究

Author (5)： WOO Sungha (SK Hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  JANG Heeyeon (SK Hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  LEE Youngmo (SK Hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  KIM Sangpyo (SK Hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  YIM Donggyu (SK Hynix Inc., Chungcheongbuk-do, KOR)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9635  Page： 96351Y.1-96351Y.6  Publication year： 2015 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photomask ,  photolithography ,  *machining defect ,  *flaw inspection ,  factor ,  semiconductor process ,  fine patterning ,  image ,  measurement system ,  repair ,  wafer ,  length ,  analysis ,  parameter ,  lighting condition
Semi thesaurus term： critical dimension ,  photomask defect ,  effect factor ,  aerial image ,  defect analysis

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 高度 ,  マスク ,  欠陥検査 ,  要因 ,  研究