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J-GLOBAL ID：201603003759547098

薄膜トランジスタおよびその製造方法

Inventor： 河原 敏男 ,  岡本 一将 ,  松本 和彦 ,  宇都宮 里佐 ,  松葉 晃明 ,  松本 均
Applicant, Patent owner： 学校法人中部大学 ,  国立大学法人北海道大学 ,  国立大学法人大阪大学 ,  日新電機株式会社
Agent (4)： 上羽 秀敏 ,  松山 隆夫 ,  坂根 剛 ,  川上 桂子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014531457
Patent number：5856303
Application date： Aug. 23, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】 一主面に凹凸形状がストライプ状または碁盤目状に形成されたシリコン基板と、 前記凹凸形状の凸部の長さ方向に沿って複数の凸部上に配置され、各々が前記シリコン基板の法線方向に成長した複数のカーボンナノウォール薄膜からなるチャネル層と、 前記複数のカーボンナノウォール薄膜の各々において前記カーボンナノウォール薄膜の厚み方向に平行な第1の側面に少なくとも接するソース電極と、 前記カーボンナノウォール薄膜の面内方向において前記ソース電極に対向するように配置され、前記複数のカーボンナノウォール薄膜の各々において前記第1の側面に対向する第2の側面に少なくとも接するドレイン電極と、 ゲート電極と、 前記複数のカーボンナノウォール薄膜と前記ゲート電極との間に配置された絶縁膜とを備える薄膜トランジスタ。

IPC (5)：

H01L 29/786 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/06 ( 200 6.01) ,  H01L 21/28 ( 200 6.01) ,  H01L 29/41 ( 200 6.01)

FI (10)：

H01L 29/78 618 B ,  H01L 29/78 626 C ,  H01L 29/78 618 C ,  H01L 29/78 617 N ,  H01L 29/78 627 Z ,  H01L 29/06 601 N ,  H01L 21/28 301 B ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 21/28 301 A ,  H01L 29/44 S

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• カーボンナノウォールの選択成長方法、およびカーボンナノウォールを用いた電子デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-059472   Applicant：国立大学法人名古屋大学, NUエコ・エンジニアリング株式会社
• カーボンナノウォール及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-081314   Applicant：国立大学法人名古屋大学, NUエコ・エンジニアリング株式会社
• カーボンナノウォールの処理方法、カーボンナノウォール、カーボンナノウォールデバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-093283   Applicant：トヨタ自動車株式会社, 堀勝, 平松美根男