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J-GLOBAL ID：201603006178809759
粒子線治療装置およびその作動方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
大岩 増雄
, 竹中 岑生
, 村上 啓吾
, 吉澤 憲治
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015513399
Patent number：6022042
Application date： Apr. 23, 2013
Claim (excerpt)：
【請求項1】 照射対象を深さ方向に沿って複数のスライスに分割し、深さの順にスライスごとに成形した粒子線を照射していく際、隣接する2つ以上のスライスを含むスライス群ごとに加速器から出射する粒子線のエネルギーを設定し、当該スライス群内のスライスごとに減衰量を設定する粒子線治療装置であって、
粒子線を透過させる透過板の厚みを変化させることで、前記減衰量を調整する可変レンジシフタと、
走査電磁石を有し、前記減衰量を調整された粒子線を前記スライスに応じて成形する照射ノズルと、
前記可変レンジシフタと前記照射ノズルとの間に設置され、前記透過板によって発散した粒子線を収束させるように動作する四極電磁石と、
前記加速器と前記可変レンジシフタの設定値を定めるとともに、設定値に応じて前記四極電磁石の励磁量を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記スライス群ごとに、当該スライス群内で最も深い位置のスライスに対して、前記透過板が所定の厚みを有するように、前記加速器から出射するエネルギーを前記最も深い位置のスライスに対応するエネルギーよりも高い値に設定するともに、
前記スライス群ごとに設定される前記透過板の厚みは、深い位置のスライス群に設定された厚みが、浅い位置のスライス群に設定された厚み以上であり、かつ、最も深い位置のスライス群に設定された厚みが、最も浅い位置のスライス群に設定された厚みよりも厚いことを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1)：
FI (2)：
A61N 5/10 N
, A61N 5/10 K
Cited by applicant (2)
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粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2008-080918
Applicant：三菱電機株式会社
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粒子線照射装置及び粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2006-007364
Applicant：三菱電機株式会社
Cited by examiner (2)
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粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2008-080918
Applicant：三菱電機株式会社
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粒子線照射装置及び粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2006-007364
Applicant：三菱電機株式会社
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