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J-GLOBAL ID:201603009118506314
中空粒子の製造装置
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (5):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014117361
Publication number (International publication number):2015229622
Application date: Jun. 06, 2014
Publication date: Dec. 21, 2015
Summary:
【課題】外殻に孔が存在せず、粒子強度も高い酸化物中空粒子を安価かつ大量に製造することができる製造装置の提供。【解決手段】酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有することを特徴とする酸化物中空粒子製造装置。【選択図】図1
Claim (excerpt):
酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有することを特徴とする酸化物中空粒子製造装置。
IPC (3):
C01B 13/14
, B01J 19/00
, B01J 2/04
FI (3):
C01B13/14 B
, B01J19/00 N
, B01J2/04
F-Term (25):
4G004EA08
, 4G042DA02
, 4G042DB10
, 4G042DB35
, 4G042DD03
, 4G042DD13
, 4G042DE06
, 4G042DE09
, 4G073BD03
, 4G073BD23
, 4G073BD30
, 4G073CE01
, 4G073CE04
, 4G073FD22
, 4G073FD24
, 4G073GA11
, 4G073GA12
, 4G075AA27
, 4G075BA05
, 4G075BB02
, 4G075BB03
, 4G075CA02
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EC01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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Cited by examiner (15)
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特開平3-109207
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結晶質微小中空体の製造方法および結晶質微小中空体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-355323
Applicant:旭硝子株式会社
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セラミックス粉体の製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-051475
Applicant:大川原化工機株式会社
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