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J-GLOBAL ID:201603012307746092
プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢野 正行
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011285428
Publication number (International publication number):2013132614
Patent number:5924615
Application date: Dec. 27, 2011
Publication date: Jul. 08, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 支持体上にポリイミド膜又はポリイミドとポリビニルピロリドンとの混合膜を形成する工程と、
その上に金属塩の溶液を塗布した後、500°C以上に加熱することにより、前記有機高分子膜上にセラミック膜を形成する工程と、
前記セラミック膜を熱可塑性プラスチックの基材と合わせた状態でセラミック膜と基材との界面を前記プラスチックのガラス転移温度以上に加熱することにより、基材上にセラミック膜を転写する工程と
を備えることを特徴とする、プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法。
IPC (4):
B05D 7/24 ( 200 6.01)
, C23C 18/12 ( 200 6.01)
, B32B 18/00 ( 200 6.01)
, B05D 1/28 ( 200 6.01)
FI (4):
B05D 7/24 302 A
, C23C 18/12
, B32B 18/00 C
, B05D 1/28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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転写基板とそれを用いた転写方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-298952
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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特開平4-344236
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微小構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-016586
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-160790
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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光学要素および積層体転写シート
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-172058
Applicant:ミネソタマイニングアンドマニュファクチュアリングコンパニー
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