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J-GLOBAL ID：201603018295364472

照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム

Inventor： 稲庭 拓 ,  兼松 伸幸 ,  古川 卓司 ,  白井 敏之 ,  野田 耕司
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
Agent (1)： 西原 広徳
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012106365
Publication number (International publication number)：2013233233
Patent number：5954705
Application date： May. 07, 2012
Publication date： Nov. 21, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 イオン源で生成した荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置であって、 1つの標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備え、 前記複合照射パラメータ決定手段は、 照射する前記イオン種の種類、または、照射する複数種類のイオン種の割合を、標的内の部位によって異ならせて前記照射パラメータを決定する 照射計画装置。

IPC (1)：

A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (2)：

A61N 5/10 D ,  A61N 5/10 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 荷電粒子照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-168562   Applicant：三菱電機株式会社
• 逆方向治療計画法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2008-553731   Applicant：ドイチェスクレブスフォルシュングスツェントルムシュティフトゥングデスエッフェントリッヒェンレヒツ
• 照射プラン選択のための方法および装置並びに照射システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-199740   Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 重ね合わせ照射のためのRobust最適化演算法