液体中の異質液体領域形成方法及び装置

Inventor： , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：市東篤 , 市東禮次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014154144
Publication number (International publication number)：2016030963
Application date： Jul. 29, 2014
Publication date： Mar. 07, 2016
Summary：

【課題】特定の第1液体中に安定的に維持された異質の第2液体の領域を簡単に形成することができる方法及び装置を提供する。【解決手段】第1液体M中に所定口径X1の頂面開口11を整流板12で覆った中空箱体10を設置し,箱体10の頂面又は側面に底面16へ向けて設けた注入口14から箱体10内に第1液体Mと異質の第2液体Fを所要流量Frで継続的に注入して充溢させ,箱体10内の底面16で流れの向きを変えた第2液体Fを頂面11の整流板12全体から均等な流速Sで放流して第1液体M中に第2液体Fの領域Cを形成する。好ましくは,箱体頂面11の整流板12を,箱体底面16で流れの向きを変えた第2液体Fの廻り込みやすい範囲15bの流れ抵抗が廻り込みにくい範囲15aの流れ抵抗よりも大きいものとする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

第1液体中に所定口径の頂面開口を整流板で覆った中空箱体を設置し,前記箱体の頂面又は側面に底面へ向けて設けた注入口から箱体内に第1液体と異質の第2液体を所要流量で継続的に注入して充溢させ,前記箱体内の底面で流れの向きを変えた第2液体を頂面の整流板全体から均等な流速で放流して第1液体中に第2液体領域を形成してなる液体中の異質液体領域形成方法。

IPC (4)：

E02B 1/00 , E02B 7/00 , C02F 1/52 , C02F 1/00

FI (4)：

E02B1/00 Z , E02B7/00 Z , C02F1/52 Z , C02F1/00 J

F-Term (7)：

4D015BA21 , 4D015BA23 , 4D015BB05 , 4D015CA14 , 4D015DC02 , 4D015EA01 , 4D015EA32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-344911 Applicant：東京エレクトロン株式会社
特開昭55-124598
縦形貯水タンク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-373009 Applicant：株式会社森松総合研究所, 株式会社カンチ総合技術研究所, 吉田英人

Show all

Cited by examiner (6)

基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-344911 Applicant：東京エレクトロン株式会社
特開昭55-124598
縦形貯水タンク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-373009 Applicant：株式会社森松総合研究所, 株式会社カンチ総合技術研究所, 吉田英人

Show all

Return to Previous Page