透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：平山一幸
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012101654
Publication number (International publication number)：2013229244
Patent number：5970648
Application date： Apr. 26, 2012
Publication date： Nov. 07, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】電子線バイプリズムと、試料を光軸と垂直な面内において少なくとも1方向に微動可能な試料保持装置と、試料の像及び電子線バイプリズムにより形成される電子線干渉縞が観察される顕微鏡像観察記録面において列状に配設された複数の電子検出素子から構成される電子線検出器と、を備えた透過型電子顕微鏡であって、前記電子線バイプリズムにより前記試料の像に重畳して前記電子線干渉縞を形成し、前記電子線干渉縞の信号強度を前記電子検出素子の配列方向が定める軸に沿って出力し、前記微動可能な試料保持装置により所定の距離だけ前記試料を微動させることによって変化する前記電子検出素子からの信号強度を、前記電子検出素子の配列方向が定める軸に垂直方向に前記試料の微動に伴って順次出力し、該信号強度の1次元の強度を試料位置に対応した位置に並べることによって、前記試料の微動による電子線位相の変化を、等位相線で表した干渉顕微鏡像として得ることを特徴とする、透過型電子顕微鏡。

IPC (5)：

H01J 37/295 ( 200 6.01) , H01J 37/26 ( 200 6.01) , H01J 37/244 ( 200 6.01) , H01J 37/20 ( 200 6.01) , H01J 37/22 ( 200 6.01)

FI (5)：

H01J 37/295 , H01J 37/26 , H01J 37/244 , H01J 37/20 C , H01J 37/22 501 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

走査電子線干渉装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-108643 Applicant：株式会社日立製作所
特開平1-065762
電子線干渉装置、および電子線干渉顕微方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-044434 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ, 独立行政法人理化学研究所

Cited by examiner (4)

走査電子線干渉装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-108643 Applicant：株式会社日立製作所
特開平1-065762
特開平1-065762

Show all

Return to Previous Page