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J-GLOBAL ID：201702240654572254   Reference number：17A0865345

Effects of UV Intensity, Line-speed, and Light Distribution on Conversion and Surface Elastic Modulus of Roll-to-roll UV-cured Film

ロールツーロールUV硬化フィルムのUV強度,線速度および光分布が転化および表面弾性率に及ぼす影響

Author (3)： Taki Kentaro (College of Science and Engineering, Kanazawa University) ,  Kondo Shunsuke (Department of Polymer Science and Engineering, Yamagata University) ,  Ito Hiroshi (Department of Polymer Science and Engineering, Yamagata University)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 29  Issue： 6  Page： 835-840(J-STAGE)  Publication year： 2016 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  flexibility ,  production method ,  nanostructure ,  *solid state device ,  *surface treatment ,  *photopolymerizable resin ,  radiant intensity ,  optimization
Semi thesaurus term： *nanoimprint lithography ,  elastic behavior ,  roll to roll production method ,  Nanostructures ,  *solid state device ,  *surface treatment ,  *UV-curing resin ,  UV intensity

Author keywords (4)： roll-to-roll ,  UV-curable resin ,  conversion ,  elasticity

JST classification (2)： Surface treatment  (YH04112X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (9)：

• 1. H. Schift, J. Vac. Sci. Tech. B, 26 (2008), 458.
• 2. S. H. Ahn, L. J. Guo, Adv. Mater., 20 (2008) 2044.
• 3. S. H. Ahn, L. J. Guo, ACS Nano, 3 (2009) 2304.
• 4. J. J. Dumond, H. Y. Low, J. Vac. Sci. Technol. B, 30 (2012), 010801-1.
• 5. H. Yoshikawa, J. Taniguchi, G. Tazaki, T. Zento, Microelectron. Eng., 112 (2013) 273.

Terms in the title (7)： ロールツーロール ,  UV硬化 ,  フィルム ,  UV強度 ,  線速度 ,  光分布 ,  表面弾性