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J-GLOBAL ID：201702249945316025   Reference number：17A0279718

最新めっき技術 有機シラン系自己組織化単分子膜(SAM)CVDの高速・低温・大面積化とSAMを用いた金属めっきパターン形成

Author (1)： TAKAI OSAMU (関東学院大 材料・表面工研)
Material： 金属  (Materials Science & Technology)
Volume： 87  Issue： 3  Page： 194-199  Publication year： Mar. 01, 2017 
JST Material Number： F0157A  ISSN： 0368-6337  CODEN： KNZKA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *monomolecular layer ,  self-organizing ,  silanes ,  organosilicon compound ,  *chemical vapor deposition ,  *pattern formation ,  fine patterning ,  ultraviolet irradiation ,  *electroless plating ,  *circuit pattern generation ,  organic silane ,  *self-assembled monolayer
Semi thesaurus term： *self-assembled monolayer ,  *chemical vapor deposition

JST classification (2)： Thin films of organic compounds  (BK14070L) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (9)： めっき技術 ,  有機シラン ,  自己組織化単分子膜 ,  SAM ,  CVD ,  低温 ,  大面積 ,  金属めっき ,  パターン形成