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J-GLOBAL ID：201702269790652845   Reference number：17A0289880

High-performance fabrication process for 2xnm hole-NIL template production

2xnmホール-NILテンプレート製造用の高性能製造工程

Author (10)： YAGAWA Keisuke (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SUENAGA Machiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  MOTOKAWA Takeharu (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TANABE Mana (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ANDO Akihiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  YAMANAKA Eiji (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  MORISHITA Keiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KANAMITSU Shingo (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SAITO Masato (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ITOH Masamitsu (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9985  Page： 99852E.1-99852E.7  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  *circuit pattern generation ,  *nanostructure ,  *pore ,  ultraviolet radiation ,  resist ,  electron microscopy ,  flaw inspection ,  cross section(face)
Semi thesaurus term： *UV nanoimprint lithography ,  template ,  *nanohole

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： ホール ,  NIL ,  テンプレート ,  高性能 ,  製造工程