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J-GLOBAL ID：201703000170681051
赤外分光法による含フッ素重合体の分析
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
鮫島 睦
, 新免 勝利
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016159790
Patent number：6061052
Application date： Aug. 17, 2016
Summary：
【課題】含フッ素重合体を有効成分とする含フッ素表面処理剤を含有する物品におけるフルオロアルキル基の炭素数を簡便に求める分析方法を提供する。
【解決手段】フーリエ変換赤外分光器(FT-IR)を用いる赤外全反射減衰法(IR-ATR法)によって、含フッ素表面処理剤が有するフルオロアルキル基の炭素数を求める、含フッ素表面処理剤を含有する物品を分析する方法であって、含フッ素表面処理剤が含フッ素重合体を有効成分として含み、含フッ素重合体が、式:CH2=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Rf[式中、Xは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、Yは、-O-または-NH-であり、Zは、直接結合または二価の有機基であり、Rfは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基である。]で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位を有する分析方法。
【選択図】図1
Claim (excerpt)：
【請求項1】フーリエ変換赤外分光器(FT-IR)を用いる赤外全反射減衰法(IR-ATR法)によって、含フッ素表面処理剤が有するフルオロアルキル基の炭素数を求める、含フッ素表面処理剤を含有する物品を分析する方法であって、
含フッ素表面処理剤が含フッ素重合体を有効成分として含み、含フッ素重合体が、式:
CH2=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Rf
[式中、Xは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Zは、直接結合または二価の有機基であり、
Rfは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基である。]
で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位を有する分析方法。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
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