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J-GLOBAL ID：201703001854066220

中性子発生装置

Inventor： 久利 修平 ,  松下 出 ,  高橋 利治 ,  堀池 寛 ,  村田 勲 ,  帆足 英二 ,  土井 幸子 ,  加藤 逸郎
Applicant, Patent owner： 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
Agent (2)： 酒井 宏明 ,  高村 順
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012267702
Publication number (International publication number)：2014115123
Patent number：6127253
Application date： Dec. 06, 2012
Publication date： Jun. 26, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】 端部に液体金属を吐出するノズルの吐出口が配置され、且つ、所定位置に陽子ビームの照射位置が設定されると共に少なくとも当該照射位置を含む一定領域が炭素材料、炭素繊維複合材料、SiC、SiC繊維複合材料若しくはその混合物又はアルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金の軽元素材料から構成され且つその内部に液体金属が流れる樋状の流路と、 前記流路に設けられた、リチウムとの共存性を有する金属材料からなる薄板状のライナーと、 を備え、 前記ライナーは、前記吐出口にだけ固定され、熱膨張により前記流路に対してスライド可能であること を特徴とする中性子発生装置。

IPC (5)：

G21K 5/08 ( 200 6.01) ,  G21K 5/02 ( 200 6.01) ,  H05H 3/06 ( 200 6.01) ,  H05H 6/00 ( 200 6.01) ,  A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (5)：

G21K 5/08 N ,  G21K 5/02 N ,  H05H 3/06 ,  H05H 6/00 ,  A61N 5/10 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭58-010700
  
• 中性子発生装置用液体金属ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-274895   Applicant：株式会社日立製作所, 独立行政法人日本原子力研究開発機構
• 特公昭42-012030