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J-GLOBAL ID：201703003846607274

細胞担持用基材及びその製造方法

Inventor： 高橋 秀一 ,  大平 美智男 ,  中田 英夫 ,  宮田 昌悟 ,  遠山 周吾 ,  藤田 淳 ,  福田 恵一
Applicant, Patent owner： 荏原実業株式会社 ,  学校法人慶應義塾
Agent (1)： 中谷 智子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017501942
Patent number：6200621
Application date： Feb. 24, 2016
Claim (excerpt)：

【請求項1】 ポリスチレンを主成分とする基材からなる細胞担持用基材であって、飛行時間型二次イオン質量分析装置によるビーム照射によりC7H5O+分子を生じる成分を含有する細胞担持面を有し、当該細胞担持面において細胞が担持される細胞担持用基材であって、前記細胞担持面への飛行時間型二次イオン質量分析装置によるビーム照射により生じる全ての分子に対する前記C7H5O+分子の割合が0.015以上である、細胞担持用基材。

IPC (4)：

C12M 1/00 ( 200 6.01) ,  C12M 1/22 ( 200 6.01) ,  C12N 5/073 ( 201 0.01) ,  C12N 5/10 ( 200 6.01)

FI (4)：

C12M 1/00 C ,  C12M 1/22 ,  C12N 5/073 ,  C12N 5/10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 細胞培養基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-097596   Applicant：日東電工株式会社
• 特開昭63-152973
  
• 細胞培養基材及びその製造方法並びに細胞培養方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-181913   Applicant：日東電工株式会社
• 細胞培養方法、生体組織補填体の製造方法、細胞培養装置および生体組織補填材の製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-045790   Applicant：オリンパス株式会社

Cited by examiner (4)

• 細胞培養基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-097596   Applicant：日東電工株式会社
• 特開昭63-152973
  
• 細胞培養基材及びその製造方法並びに細胞培養方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-181913   Applicant：日東電工株式会社
• 細胞培養方法、生体組織補填体の製造方法、細胞培養装置および生体組織補填材の製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-045790   Applicant：オリンパス株式会社