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J-GLOBAL ID：201703009893626684

液体金属ターゲット形成装置及び中性子発生装置

Inventor： 久利 修平 ,  松下 出 ,  堀池 寛 ,  村田 勲 ,  帆足 英二 ,  鈴木 幸子 ,  加藤 逸郎
Applicant, Patent owner： 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
Agent (2)： 酒井 宏明 ,  高村 順
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012114930
Publication number (International publication number)：2013242207
Patent number：6143149
Application date： May. 18, 2012
Publication date： Dec. 05, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】液体金属を噴射するノズルと当該ノズルから噴射した液体金属を受ける受け部とを有すると共に、前記ノズルと受け部との間の陽子ビームの照射空間に液体金属ターゲットを形成するターゲット形成部と、 起動又は停止時に、前記ノズル及び受け部を液体金属の噴出方向であって且つノズル先端がターゲット形成位置から受け部に至るまで相対移動させるように、前記ノズル及び受け部の一方又は双方を支持する第一の移動支持手段と、 前記ノズル側又は受け部側に設けられ且つ液体金属の噴出方向に伸縮可能な伸縮筒体と、 を備えたことを特徴とする液体金属ターゲット形成装置。

IPC (2)：

G21K 5/08 ( 200 6.01) ,  G21K 5/02 ( 200 6.01)

FI (2)：

G21K 5/08 N ,  G21K 5/02 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 液体金属ループ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-245742   Applicant：日本原子力研究所, 石川島播磨重工業株式会社
• 中性子発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-054197   Applicant：石川島播磨重工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• IFMIF液体金属リチウムターゲット流に関する実験研究