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J-GLOBAL ID：201703011079468436

水処理方法及び水処理装置

Inventor：
中原 禎仁

About 中原 禎仁

, 
澤田 繁樹

About 澤田 繁樹

, 
金田一 智規

About 金田一 智規


Applicant, Patent owner：
株式会社ウェルシィ

About 株式会社ウェルシィ

, 
国立大学法人広島大学

About 国立大学法人広島大学


Agent (3)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015205461
Publication number (International publication number)：2017077509
Application date： Oct. 19, 2015
Publication date： Apr. 27, 2017
Summary：
【課題】アンモニア性窒素を含む被処理水を、好気性アンモニア酸化細菌及びアナモックス細菌を含む微生物群により安定的に連続処理できる水処理方法及び水処理装置の提供。【解決手段】好気性アンモニア酸化細菌及びアナモックス細菌を含む微生物群が収容された水槽11に、被処理水を導入しながら、該被処理水と前記微生物群とを接触させて生物処理を行い処理水を得る水処理方法において、前記水槽11内の被処理水βの溶存酸素濃度(DO濃度)を0.05〜0.4mg/Lに保持する工程を含む水処理方法。前記微生物群が収容された水槽11と、被処理水を水槽11に供給する被処理水供給管31と、前記微生物群により生物処理された処理水を排出する処理水排出管32を備え、前記被処理水を水槽11内に供給しながら前記生物処理が行われる水処理装置であって、前記水槽11内の被処理水βのDO濃度が0.05〜0.4mg/Lに保持された水処理装置1。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
好気性アンモニア酸化細菌及びアナモックス細菌を含む微生物群が収容された水槽に、アンモニア性窒素を含む被処理水を導入しながら、該被処理水と前記微生物群とを接触させて生物処理を行い、脱窒された処理水を得る水処理方法において、 前記水槽内の被処理水の溶存酸素濃度(以下DO濃度という)を0.05〜0.4mg/Lに保持する工程を含む、水処理方法。
IPC (2)：
C02F 3/34 ,  C02F 1/44
FI (5)：
C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101C ,  C02F3/34 101D ,  C02F1/44 K
F-Term (27)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006KB21 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA22 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC33 ,  4D006MC37 ,  4D006MC62 ,  4D006PB08 ,  4D006PC80 ,  4D040BB07 ,  4D040BB24 ,  4D040BB54 ,  4D040BB63 ,  4D040BB91
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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