Pat
J-GLOBAL ID:201703011686057194

人材リスク管理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 山田 威一郎 ,  立花 顕治 ,  田中 順也 ,  松井 宏記 ,  山下 未知子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015091967
Publication number (International publication number):2016207165
Application date: Apr. 28, 2015
Publication date: Dec. 08, 2016
Summary:
【課題】職場組織における離職リスクや労務リスク等の人材リスクを適切に評価することができる人材リスク管理システムを提供する。【解決手段】職場組織における離職リスク及び労務リスクの少なくとも一方のリスクを含む人材リスクを管理するための人材リスク管理システムが提供される。前記人材リスク管理システムは、前記職場組織に属する複数の従業員のストレスチェックの結果を示すストレスチェックデータが格納される第1記憶部と、前記複数の従業員の勤怠データが記憶される第2記憶部と、前記第1記憶部から前記複数の従業員の前記ストレスチェックデータを読み出すとともに、前記第2記憶部から前記勤怠データを読み出し、前記ストレスチェックデータ及び前記勤怠データに応じて前記人材リスクを評価するリスク評価部と、前記人材リスクを管理者に対して提示する管理者GUIを作成するGUI作成部とを備える。【選択図】図6
Claim (excerpt):
職場組織における離職リスク及び労務リスクの少なくとも一方を含む人材リスクを管理するための人材リスク管理システムであって、 前記職場組織に属する複数の従業員のストレスチェックの結果を示すストレスチェックデータが格納される第1記憶部と、 前記複数の従業員の勤怠データが格納される第2記憶部と、 前記第1記憶部から前記複数の従業員の前記ストレスチェックデータを読み出すとともに、前記第2記憶部から前記勤怠データを読み出し、前記ストレスチェックデータ及び前記勤怠データに応じて前記人材リスクを評価するリスク評価部と、 前記人材リスクを管理者に対して提示する管理者GUIを作成するGUI作成部と を備える、 人材リスク管理システム。
IPC (1):
G06Q 10/06
FI (1):
G06Q10/06 130
F-Term (1):
5L049AA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

Return to Previous Page