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J-GLOBAL ID：201703013410556378

インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法

Inventor： 尹 成圓 ,  朴 相天 ,  廣島 洋 ,  高木 秀樹 ,  鈴木 健太
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 平木 祐輔 ,  関谷 三男 ,  石川 滝治
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015542536
Patent number：6192023
Application date： Aug. 29, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】ポリイミド膜の表面に微細な凹凸パターンを形成するポリイミドの微細パターン形成方法であって、 感光性を有する、ガラス転移温度以下での成形が可能な溶剤可溶性ポリイミド樹脂組成物からなるポリイミド膜を形成する成膜工程と、 前記ポリイミド膜をガラス転移温度以下の温度で加熱し、凹凸が形成されたモールドを押し当てて加圧成形する熱インプリント工程と、 前記ポリイミド膜と前記モールドを冷却して前記ポリイミド膜から前記モールドを離型させる冷却離型工程と、 前記ポリイミド膜に紫外線を照射して露光を行う露光工程と、 前記ポリイミド膜を加熱して熱硬化させる熱処理工程と、 を含むことを特徴とするポリイミドの微細パターン形成方法。

IPC (1)：

B29C 59/02 ( 200 6.01)

FI (1)：

B29C 59/02 ZNM Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 感光性変性ポリイミド樹脂組成物及びその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-110759   Applicant：株式会社ピーアイ技術研究所