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J-GLOBAL ID:201703019450639975

水素含有液体の生成装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): とこしえ特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016095438
Publication number (International publication number):2017104842
Application date: May. 11, 2016
Publication date: Jun. 15, 2017
Summary:
【課題】10分後の水素濃度が6ppm、24時間後の水素濃度が10ppmを超える水素含有液体を生成することができる水素含有液体の生成装置及び方法を提供する。【解決手段】水分と反応して水素ガスを発生する水素発生剤11と、前記水素発生剤を入れ、内部で発生した水素ガスを外部へ排出するカプセル20と、前記カプセルの内部で発生した水素ガスの添加対象たる液体Lを入れる容器30と、を備え、前記水素発生剤の重量(Wg)に対する前記カプセルの容積(Vml)の比率(V/W)を11.4以下、より好ましくは8.2以下とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
水分と反応して水素ガスを発生する水素発生剤と、 前記水素発生剤を入れ、内部で発生した水素ガスを外部へ排出されるカプセルと、 前記カプセルの内部で発生した水素ガスの添加対象たる液体を入れる容器と、を備え、 前記水素発生剤の重量(Wg)に対する前記カプセルの容積(Vml)の比率(V/W)を、11.4以下とした水素含有液体の生成装置。
IPC (3):
C02F 1/68 ,  B01F 1/00 ,  B01F 15/02
FI (5):
C02F1/68 510A ,  B01F1/00 A ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530F ,  B01F15/02 A
F-Term (15):
4B117LC07 ,  4B117LE05 ,  4B117LE06 ,  4B117LE10 ,  4B117LK01 ,  4B117LK02 ,  4B117LT05 ,  4C076DD21 ,  4C087BB34 ,  4G035AA01 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13 ,  4G035AE19 ,  4G037AA01 ,  4G037EA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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