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J-GLOBAL ID:201703019853995186
エクスビボ培養されたナチュラルキラー細胞の集団
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
風早 信昭
, 浅野 典子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016102993
Publication number (International publication number):2016187341
Application date: May. 24, 2016
Publication date: Nov. 04, 2016
Summary:
【課題】エクスビボ培養されたナチュラルキラー(NK)細胞の集団を提供する。【解決手段】該集団は、NK細胞を含む細胞の集団を、少なくとも1つの増殖因子、ならびに、効果的な濃度、効果的な暴露時期および効果的な暴露継続期間のニコチンアミドおよび/または他のニコチンアミド成分とともに培養されており、前記NK細胞を、前記少なくとも1つの増殖因子、ならびに、前記効果的な濃度、効果的な暴露時期および効果的な暴露継続期間の前記ニコチンアミドおよび/または他のニコチンアミド成分とともに培養することにより、CD62Lの上昇した発現、上昇した遊走応答、上昇したホーミングおよびインビボ保持、より大きい増殖、増大した細胞傷害活性のうちの少なくとも1つがもたらされる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
エクスビボ培養されたナチュラルキラー(NK)細胞の集団であって、前記集団は、IL-2,IL-15、または、IL-2およびIL-15の両方、ならびに、2〜20mMの濃度のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに少なくとも7日間培養されており、前記集団は、下記の少なくとも1つを特徴とする、集団:
(a)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞と比較して、CD62Lの上昇した発現;
(b)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞と比較して、上昇した遊走応答;
(c)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞と比較して、上昇したホーミングおよびインビボ保持;
(d)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞と比較して、より大きい増殖;
(e)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞と比較して、増大した細胞傷害活性;および
(f)他の点では同一の培養条件のもと、0.1mM未満のニコチンアミドおよび/またはニコチンアミドアナログとともに培養されたNK細胞の集団と比較して、CD3+細胞対CD56+/CD3-細胞の低下した比率。
IPC (7):
C12N 5/078
, A61K 35/17
, A61P 31/12
, A61P 35/02
, A61P 37/06
, A61P 37/02
, A61P 43/00
FI (7):
C12N5/0783
, A61K35/17 Z
, A61P31/12
, A61P35/02
, A61P37/06
, A61P37/02
, A61P43/00 105
F-Term (19):
4B065AA94X
, 4B065AC12
, 4B065AC20
, 4B065BA22
, 4B065BB19
, 4B065BB34
, 4B065BB40
, 4B065CA44
, 4C087AA01
, 4C087AA02
, 4C087AA03
, 4C087BB37
, 4C087CA04
, 4C087NA14
, 4C087ZB07
, 4C087ZB08
, 4C087ZB21
, 4C087ZB27
, 4C087ZB33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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過剰増殖性障害を処置するための組成物および方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-539250
Applicant:ザガバメントオブザユナイテッドステイツオブアメリカアズリプレゼンティッドバイザセクレタリーデパートメントオブヘルスアンドヒューマンサービシーズ
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幹細胞のホーミングおよび生着を改善する方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-542940
Applicant:ガミダセルリミテッド
Article cited by the Patent:
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